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粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置-アリオス株式会社

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成膜チャンバー

φ360mm×L350mm (内寸) / SUS304 JIS350ハッチ機構

主な搭載機器

矩形マグネトロンカソードユニット 試料ホルダ

排気系統 (一例)

ターボ分子ポンプ (355L/s) ロータリーポンプ (203L/min) クリスタルイオンゲージ、隔膜真空計

到達圧力

5×10^-4Pa以下 (チャンバー内が空の状態にて)

カソードユニット ターゲット寸法

50mm×150mm×t5mm (磁性体はt1mm)

カソードユニット 冷却方法

水冷 (接点付き流量計)

カソードユニット DC電源 出力

MAX 1kV・1.2A (1,200W) 可変

試料ホルダ サイズ・形状

ドラム形状 (円筒型) φ250mm×L180mm (内寸)

試料ホルダ 処理容量

0.5/1バッチ (試料直径:φ0.5mm)

試料ホルダ ホルダ材質

SUS304

試料ホルダ 回転機構

モータ駆動 (0-20rpm可変)

この製品について

■概要

本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの回転運動により試料を撹拌させることで凝集を防ぎ、均一かつ効率的にスパッタ成膜が可能です。

■特徴

・ターゲットサイズ150mm×50mmの専用矩形カソードユニットを標準装備しています。 ・高圧電源やモータ駆動に対するインターロックなど各種安全対策を講じています。 ・DC 1,200W (標準) で、RF仕様もご用意出来ます。 ・前面ハッチから放電状況が確認可能です。 ・試料ホルダの回転は0-20rpmの範囲で速度設定が可能です。 ・試料ホルダは試料を入れたまま着脱可能で、成膜後の試料回収が容易です。

■オプション

・試料撹拌翼 (脱着可能構造) ・シャッターユニット (ターゲット⇔試料ホルダ間) ・RF対応

■カスタム仕様

・カソード多元化 ・試料自動投入、回収機構

  • 型番

    粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

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粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置 粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 成膜チャンバー 主な搭載機器 排気系統 (一例) 到達圧力 カソードユニット ターゲット寸法 カソードユニット 冷却方法 カソードユニット DC電源 出力 試料ホルダ サイズ・形状 試料ホルダ 処理容量 試料ホルダ ホルダ材質 試料ホルダ 回転機構
粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置-品番-粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置 要見積もり φ360mm×L350mm (内寸) / SUS304
JIS350ハッチ機構
矩形マグネトロンカソードユニット
試料ホルダ
ターボ分子ポンプ (355L/s)
ロータリーポンプ (203L/min)
クリスタルイオンゲージ、隔膜真空計
5×10^-4Pa以下 (チャンバー内が空の状態にて) 50mm×150mm×t5mm (磁性体はt1mm) 水冷 (接点付き流量計) MAX 1kV・1.2A (1,200W) 可変 ドラム形状 (円筒型)
φ250mm×L180mm (内寸)
0.5/1バッチ (試料直径:φ0.5mm) SUS304 モータ駆動 (0-20rpm可変)

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使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

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  • 本社所在地: 東京都

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