PCVD-R100 | プラズマCVD実験装置 PCVD-R100
アリオス株式会社

アリオス株式会社の対応状況返信のとても早い企業

返答率

100.0%

返答時間

2.4時間

全型番で同じ値の指標

プラズマ源

RF ： 0~500W 可変＋自動マッチングBOX (誘導結合もしくは容量結合) 反応管： φ40×36 石英管

反応室

SUS 304製

ロードロック室

SUS 304製ハッチポート＋Oリング式トランスファーロッド

基板サイズ

~φ100

基板加熱機構

最高加熱温度： 900℃ 基板位置：上下可変電源： DC電源＋温度調節器

真空排気系

ロードロック室： TMP＋RP 反応室： RP＋トラップ

ガス供給系

MFC＋バルブ類

本体架台

キャスター、アジャスター付き

用力

三相 AC200V 60A 単相 AC100V 10A 冷却水 1 L⁄min

全1種類の型番を一覧でみる

この製品について

■概要CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分で成膜することを指します。 様々な方式がありますが、よく使われているのは熱あるいはプラズマを使う方法です。プラズマ生成にも周波数の違いによって各種あります。 アリオスでは各種プラズマCVD装置を設計、製造しております。詳細はマイクロ波 (2.45GHz) vsRF (13.56MHz) をご参照下さい。

本装置は実験用MO原料対応プラズマCVD装置で、RFプラズマ源、基板加熱機構、ガス供給系、ロードロック室などを搭載しており、各種原料ガスをプラズマ処理し基板上に薄膜を成膜可能です。

■特徴・アリオスの高真空技術を駆使しており、クリーンな真空での成膜実験が可能です。
・コンパクトチャンバー＋シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
・基板加熱機構は耐熱、耐ガス特性に優れた材料により、長時間安定な加熱が可能です。
・基板導入はロードロック機構により大気開放することなく極めて簡単に、かつ短時間に行えます。

■オプション・MO ガス供給系
・平行平板電極＋シャワーヘッド

型番
PCVD-R100

シリーズ
プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

取扱企業
アリオス株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマCVD装置

加工・工作機器

成膜装置

半導体製造

CVD装置

この商品に関する問題を報告する

330人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

返答率: 100.0%

返答時間: 2.4時間

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

プラズマCVD装置注目ランキング

プラズマCVD装置の製品42点中、注目ランキング上位6点

PETボトル用プラズマCVD装置シングルボトルDLC成膜装置マニュアルローディング

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

670人以上が見ています

最新の閲覧: 7時間前

真空直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

株式会社魁半導体

4.5 企業レビュー

510人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

卓上型シランCVD成膜装置 EcoCoat (エココート)

ハイソル株式会社

500人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

470人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

PETボトル用プラズマCVD装置リニアタイプDLC成膜装置オートマチックローディング

ジャパンクリエイト株式会社

5.0 企業レビュー

470人以上が見ています

薄膜形成装置プラズマCVD装置

神港精機株式会社

470人以上が見ています

最新の閲覧: 23時間前

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

見積もりの使い方

プラズマCVD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

立体物に成膜可能立体物対応実験用プラズマCVD装置

株式会社DINOVAC

450人以上が見ています

最新の閲覧: 22時間前

返答時間: 9.82時間

コンパクトな多様なエッチングとデポジションのソリューション PlasmaPro 80 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

440人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返答時間: 23.11時間

ダイヤモンド合成用MP-CVD装置 DCVD-301B/601B

アリオス株式会社

430人以上が見ています

最新の閲覧: 47分前

返答時間: 2.38時間

プラズマ励起化学気相堆積ロセスの柔軟なソリューション PlasmaPro 800 PECVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

420人以上が見ています

最新の閲覧: 19時間前

返答時間: 23.11時間

多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現 PlasmaPro 80 RIE

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

400人以上が見ています

最新の閲覧: 9時間前

返答時間: 23.11時間

ICPCVDプロセスモジュール PlasmaPro 100 ICPCVD

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社

5.0 企業レビュー

370人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

返答時間: 23.11時間

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

見積もりの使い方

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100 PCVD-R100の性能表

商品画像	価格 (税抜)	プラズマ源	反応室	ロードロック室	基板サイズ	基板加熱機構	真空排気系	ガス供給系	本体架台	用力
	要見積もり	RF ： 0~500W 可変＋自動マッチングBOX (誘導結合もしくは容量結合) 反応管： φ40×36 石英管	SUS 304製	SUS 304製ハッチポート＋Oリング式トランスファーロッド	~φ100	最高加熱温度： 900℃ 基板位置：上下可変電源： DC電源＋温度調節器	ロードロック室： TMP＋RP 反応室： RP＋トラップ	MFC＋バルブ類	キャスター、アジャスター付き	三相 AC200V 60A 単相 AC100V 10A 冷却水 1 L⁄min