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超高真空排気装置 UHVPS-アリオス株式会社

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チャンバー

SUS304製 (内面鏡面仕上げ、電解研磨処理)

ロードロックハッチ

SUS304製 Oリング式

ターボ分子ポンプ 排気速度

260~355 L/sec (N2 、保護金網付き) ファイファー社TM 製 又は 220~350 L/sec (N2 、保護金網付き) 大阪真空機器製作所TM 製

ターボ分子ポンプ 制御電源

デジタルコントロールによる監視、保護機能搭載

ロータリーポンプ 排気速度

250 L/min

ロータリーポンプ 電動機出力

0.45 kW

チャンバー到達圧力

1×10^-4 Pa以下 (チャンバー内の負荷がない状態)

リーク量

6.7×10^-11 Pa・m^3/sec以下

真空計

コンパクトフルレンジ CCゲージ

本体架台

キャスター、アジャスター付

用力 電源

単相 200V/15A (最大)

用力 圧縮空気

圧力 0.4~0.6 MPa (接続径 Rc 1/4)

寸法

500mm×600mm H1100mm

重量

本体約60kg

この製品について

■概要

超高真空排気装置の製造には、材料選定、溶接、洗浄、表面研磨及び表面処理からハンドリングに至るまで、多くの技術が必要です。 当社は分子線セルやMBE装置などで培った、超高真空装置製造技術を活かし、各種超高真空排気装置の製作を承っております。既に当社装置をご利用頂いているお客様からは短時間での超高真空への到達などご好評を頂いております。 本装置はメインチャンバーに試料交換用のハッチを搭載しており、各種プラズマ源、加熱機構、蒸着源、ガス供給系など各種のコンポーネントを組み合わせて、多様な実験にご使用頂けます。

■特徴

・クリーンな真空をベースに、成膜やエッチングなど多くの実験に使用できます。 ・コンパクトチャンバー+シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。 ・最小限の構成、完全手動タイプにより低コストで導入できます。 ・各種オプションの搭載によりカスタマイズが可能です。

■オプション

・基板加熱機構 ・基板上下機構 ・ロードロック機構 ・各種プラズマ源 ・加熱機構 ・蒸着源 ・ガス供給系各種

  • 型番

    UHVPS

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超高真空排気装置 UHVPS UHVPSの性能表

商品画像 価格 (税抜) チャンバー ロードロックハッチ ターボ分子ポンプ 排気速度 ターボ分子ポンプ 制御電源 ロータリーポンプ 排気速度 ロータリーポンプ 電動機出力 チャンバー到達圧力 リーク量 真空計 本体架台 用力 電源 用力 圧縮空気 寸法 重量
超高真空排気装置 UHVPS-品番-UHVPS 要見積もり SUS304製 (内面鏡面仕上げ、電解研磨処理) SUS304製 Oリング式 260~355 L/sec (N2 、保護金網付き) ファイファー社TM 製 又は
220~350 L/sec (N2 、保護金網付き) 大阪真空機器製作所TM 製
デジタルコントロールによる監視、保護機能搭載 250 L/min 0.45 kW 1×10^-4 Pa以下 (チャンバー内の負荷がない状態) 6.7×10^-11 Pa・m^3/sec以下 コンパクトフルレンジ CCゲージ キャスター、アジャスター付 単相 200V/15A (最大) 圧力 0.4~0.6 MPa (接続径 Rc 1/4) 500mm×600mm H1100mm 本体約60kg

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使用用途

#搬送吸着 #包装成形 #脱泡処理 #真空乾燥 #真空冷却 #半導体製造 #表面加工

生成方式

エゼクタ型 メカニカルブースタ型 ターボ分子型 ロータリーベーン型 ダイアフラム型

構造特性

一体型 分離型 多段型 オイルフリー型

制御機能

電磁弁内蔵型 圧力スイッチ内蔵型 デジタル制御型

対応圧力帯

粗真空対応型 中真空対応型 高真空対応型 超高真空対応型

到達圧力 Pa

0 - 1 1 - 10 10 - 1,000 1,000 - 10,000

排気速度 L/min

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 5,000 5,000 - 10,000 10,000 - 50,000 50,000 - 100,000

モーター出力 kW

0 - 1 1 - 2 2 - 3 3 - 10 10 - 20 20 - 40 40 - 100

電源電圧 V

0 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500

質量 kg

0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 4,000

真空タンク容量 L

5 - 15 15 - 25 25 - 40

常用真空圧 kPa

-7 - -5 -5 - 75 75 - 85

冷却方式

空冷 水冷

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

3.3時間

会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

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  • 本社所在地: 東京都

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