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スループット
~5.450p/h, プロセスに依る
成膜の歩留り
> 95%
Breakage
< 0.2%, プロセスに依る
アップタイム
> 95%, プロセスに依る
長さ
約4.0m
幅
約4.0m
高さ
約3.8m
型番
DECOLINE II COMPACT取扱企業
株式会社メディア研究所カテゴリ
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スパッタリング装置の製品120点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | スループット | 成膜の歩留り | Breakage | アップタイム | 長さ | 幅 | 高さ |
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要見積もり | ~5.450p/h, プロセスに依る | > 95% | < 0.2%, プロセスに依る | > 95%, プロセスに依る | 約4.0m | 約4.0m | 約3.8m |
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使用用途が導電膜の製品
スパッタリング装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#MEMS #ガラス基板 #研究開発 #光学 #絶縁膜 #電子顕微鏡 #電子部品 #導電膜 #半導体 #量産スパッタ方式
DCスパッタ型 RFスパッタ型 マグネトロンスパッタ型 グロー放電スパッタ型成膜環境
高真空型 中真空型ターゲット構成
単一ターゲット型 多元ターゲット型 ロータリターゲット型対象搬送方式
静止基板型 回転基板型 スルーフィード型処理基板 mm
20 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 700スパッタ方向
アップ ダウン装置構成
エッチング室 カセット室 スパッタ室 搬送室 ロードロック室基板加熱 ℃
100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 800
