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ホットワイヤー方式 ダイヤモンド合成装置-北野精機株式会社

ダイヤモンド合成装置 | ホットワイヤー方式 ダイヤモンド合成装置
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到達真空度

≦1.0E-5Pa

試料サイズ

100mm

ホットワイヤー

φ0.6タングステン

ヒーター電源

AC/DC35kW

基板加熱温度

Max800℃

TCモニター

6点

ガスライン

混合2系統

この製品について

■特徴

本装置は、タングステンフィラメントを使用したホットワイヤー型CVD装置で、プラズマ損傷の無い大面積と高純度薄膜成形の特徴を持っており、P・N型半導体ダイヤモンド合成や結晶シリコン太陽電池など電子デバイスの分野で多く使用されています。 本装置は分割式のチャンバー構造により、容易にメンテナンスやハード条件だしの変更が可能で、ライン構成の操作盤によりガスラインを含め操作部が前面に集約されている事で操作性良く出来ています。

■構成

・φ600高真空水冷チャンバー ・TMP&RP排気ユニット ・チャンバー昇降機構 ・ガス混合パネル (IN4系OUT2系) ・バブラー恒温層

  • 型番

    ダイヤモンド合成装置

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ホットワイヤー方式 ダイヤモンド合成装置 ダイヤモンド合成装置の性能表

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ホットワイヤー方式 ダイヤモンド合成装置-品番-ダイヤモンド合成装置 要見積もり ≦1.0E-5Pa 100mm φ0.6タングステン AC/DC35kW Max800℃ 6点 混合2系統

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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