全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
22.5時間
返信の比較的早い企業
成膜室 (部屋数)
有機金属共通:1
蒸着源 (元)
有機:8 金属:2
基板サイズ (inch)
2
膜厚分解能 (Å/s)
0.0057Å/s (INFICON社CYGNUS使用)
膜厚センサー導入数 (基)
有機金属共通:4
膜厚センサー冷却方式
水冷 (チラーより0.01℃まで制御可)
有機材料共蒸着
可 (独自のコントロール手法によりホスト1Å/s時ドープ混合率0.1~30wt%)
面内分布 (%)
50mmにて有機膜±3%以内 金属膜±5%以内
前処理室 (室)
1 (基板加熱)
導入室ストッカー数 (段)
5
到達圧力 (Pa)
成膜室+その他:10^-6台 導入室:10
真空排気系
成膜室:クライオポンプ 前処理室:クライオポンプ 導入室:ドライポンプ ドライポンプ (粗引きポンプ)
入力電源
3φ200V130A
自動排気
可 (オプション)
蒸着時の基板加熱
可 (オプション)
グローブボックス接続
可 (オプション)
装置のみ設置スペース (mm)
3,800×1,200
型番
KVD-OLED Evo.2取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
もっと見る
半導体製造装置の製品162点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
商品画像 | 価格 (税抜) | 成膜室 (部屋数) | 蒸着源 (元) | 基板サイズ (inch) | 膜厚分解能 (Å/s) | 膜厚センサー導入数 (基) | 膜厚センサー冷却方式 | 有機材料共蒸着 | 面内分布 (%) | 前処理室 (室) | 導入室ストッカー数 (段) | 到達圧力 (Pa) | 真空排気系 | 入力電源 | 自動排気 | 蒸着時の基板加熱 | グローブボックス接続 | 装置のみ設置スペース (mm) |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
要見積もり | 有機金属共通:1 |
有機:8 金属:2 |
2 | 0.0057Å/s (INFICON社CYGNUS使用) | 有機金属共通:4 | 水冷 (チラーより0.01℃まで制御可) | 可 (独自のコントロール手法によりホスト1Å/s時ドープ混合率0.1~30wt%) |
50mmにて有機膜±3%以内 金属膜±5%以内 |
1 (基板加熱) | 5 |
成膜室+その他:10^-6台 導入室:10 |
成膜室:クライオポンプ 前処理室:クライオポンプ 導入室:ドライポンプ ドライポンプ (粗引きポンプ) |
3φ200V130A | 可 (オプション) | 可 (オプション) | 可 (オプション) | 3,800×1,200 |
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
返答率
100.0%
返答時間
22.5時間