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返答率
100.0%
返答時間
26.3時間
適合クリーンルーム
Class 10
対応ウェハサイズ
~300 mm (12″)
動作温度
常温–180℃
温度安定性
±5℃
キャパシティ
4″ ウェハ 12カセット 5″ ウェハ 8カセット 6″ ウェハ 2カセット 8″ ウェハ 2カセット 12″ ウェハ 2カセット
スループット
2バッチ / 時 (イメージリバーサル ： 1バッチ / 時)
チャンバー寸法 (約) W×D×H
40.5×46×40.5 cm
本体寸法 (約) W×D×H
74×63×88 cm
供給ガス接続
・圧空 or N2：バルブ制御用 ・N2：チャンバーベント用 ・アンモニア：イメージリバーサル用
N2ガス消費量
16 SCF / プロセス
クリーン度
<5 × 1um パーティクル / 150mm ウェハ
レシピ数
8 レシピ
プロセス時間
0–999,999 秒
設定分解能
1秒
イメージリバーサル
対応
電源 (50/60Hz)
単相 208 – 230V, 20A
重量 (約)
132 kg
型番
58TA取扱企業
ハイソル株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品93点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
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返答率96%
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 適合クリーンルーム | 対応ウェハサイズ | 動作温度 | 温度安定性 | キャパシティ | スループット | チャンバー寸法 (約) W×D×H | 本体寸法 (約) W×D×H | 供給ガス接続 | N2ガス消費量 | クリーン度 | レシピ数 | プロセス時間 | 設定分解能 | イメージリバーサル | 電源 (50/60Hz) | 重量 (約) |
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要見積もり | Class 10 | ~300 mm (12″) | 常温–180℃ | ±5℃ |
4″ ウェハ 12カセット 5″ ウェハ 8カセット 6″ ウェハ 2カセット 8″ ウェハ 2カセット 12″ ウェハ 2カセット |
2バッチ / 時 (イメージリバーサル ： 1バッチ / 時) | 40.5×46×40.5 cm | 74×63×88 cm |
・圧空 or N2：バルブ制御用 ・N2：チャンバーベント用 ・アンモニア：イメージリバーサル用 |
16 SCF / プロセス | <5 × 1um パーティクル / 150mm ウェハ | 8 レシピ | 0–999,999 秒 | 1秒 | 対応 | 単相 208 – 230V, 20A | 132 kg |
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使用用途が研究開発の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
