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DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>-ナノテック株式会社

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基板ホルダー

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

搭載放電システム

DLCイオン源(イオン化蒸着源)

到達圧力

6.7E-4Pa以下

排気速度

6.7E-3Pa以下まで30分以内

基板加熱機構

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

基板バイアス

MAX3,000V500mA

装置制御

レシピ画面設定による完全自動運転

排気系

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

冷却水

3kgf/cm220~40L/min

圧縮空気

6kgf/cm2以上

この製品について

ダイヤモンドの性質に近い高硬度 (マイクロビッカース硬度2,000~4, 000) 、低摩擦係数 (μ=0.2以下) 、表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモンド・ライク・カーボン成膜装置のスタンダードモデル。 原理・構造 本装置は真空中において特殊なイオン源によりC6H6 (ベンゼン) をプラズマ中で分解し、ダイヤモンドライクカーボン膜を生成させます。マルチイオン源によるプラズマエリアの制御と基板回転機構により、複雑形状物へも均一で密着力の強いコーティングが可能です。

  • 型番

    NANOCOAT-1000

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DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ> NANOCOAT-1000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空槽(mm) 有効エリア(mm) 基板ホルダー 搭載放電システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 所要電力 設置面積(M) 冷却水 圧縮空気
DLC成膜装置<NANOCOATシリーズ>-品番-NANOCOAT-1000 要見積もり φ1000×900H φ600×500L 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) DLCイオン源(イオン化蒸着源) 6.7E-4Pa以下 6.7E-3Pa以下まで30分以内 オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) MAX3,000V500mA レシピ画面設定による完全自動運転 ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ 3φ200V30kVA 4.0W×4.0D×2.5H 3kgf/cm220~40L/min 6kgf/cm2以上

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使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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この商品の取り扱い会社情報

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16.8時間

会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県

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