株式会社高周波ネッスルの会社概要・製品情報

製品

製品

株式会社高周波ネッスル

東京都
1989年

会社概要

高周波ネッスル株式会社は1989年に設立された、誘導加熱装置・高周波金属溶解装置などの製造メーカーです。

誘導加熱装置・高周波誘導溶解装置・焼鈍用高周波加熱装置などの製造をしており、工業製品の生産現場だけでなく、MRIなどの医療分野・宇宙科学分野など取引を拡充しています。
1986年に高周波機器及びハンダ付機器の製造を目的に創業、1989年に有限会社高周波ネッスル工業として法人化、1991年に現社名へ社名変更しています。

会社基本情報

郵便番号	〒146-0095
本社住所	東京都大田区多摩川1丁目9番12号 Faceビル
創業年	1989年
リンク	株式会社高周波ネッスルホームページ

株式会社高周波ネッスルの製品カテゴリ

株式会社高周波ネッスルの製品が1件登録されています。

注目ランキング導出方法

高周波加熱装置

メーカー一覧をみる

注目ランキング 4位/7位

注目ランキング導出方法について

注目ランキングは、2024年3月の株式会社高周波ネッスルのMetoreeページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の各ページでの全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。また、製品はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。

株式会社高周波ネッスルの会社概要・製品情報

会社概要

会社基本情報

株式会社高周波ネッスルの製品カテゴリ

株式会社高周波ネッスルの位置情報