会社概要
事業内容
工業用温度測定機器・制御機器の販売
その他周辺機器・部品の販売
主要取引先
産業技術総合研究所
物質・材料研究機構
量子科学技術研究開発機構
理化学研究所
宇宙航空研究開発機構
東京大学
東北大学
京都大学
名古屋大学
名古屋工業大学
東京理科大学
北海道大学
他
【企業研究開発部門】
キヤノン株式会社
NTT物性科学基礎研究所
帝人株式会社
AGC株式会社
パナソニック株式会社
日新電機
東京エレクトロン株式会社
TDK株式会社
大日本印刷
他
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14 点の製品がみつかりました
14 点の製品
テルモセラ・ジャパン株式会社
MiniLab series フレキシブル薄膜実験装置
30人以上が見ています
■MiniLab ʻPlug & Playʼ 感覚でコンポーネントを組合せるモジュラーデザイン。必要な成膜条件を満たす専用機のセミカスタムメイドが可能...
テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-GB】 グローブボックス薄膜実験装置 MiniLab-026-GB
20人以上が見ています
■概要 本装置は、MiniLab シリーズのチャンバー部をグローブボックス作業ベンチ内に、制御ラック部をベンチ下に収納した装置です。スパ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置
20人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
■特徴 ・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ：RT→Ma...
テルモセラ・ジャパン株式会社
nano Benchtop series コンパクト薄膜実験装置 nanoシリーズ
20人以上が見ています
特徴 ■高品質膜 研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を揃えます。nanoシリーズは魂魄と...
テルモセラ・ジャパン株式会社
Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO
20人以上が見ています
■用途 ・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A
20人以上が見ています
■概要 <30W (制御精度10mW) 低出力 RFエッチングによるダメージレスエッチング欧州アカデミックパートナーとの共同開発技術「Soft-Etchi...
テルモセラ・ジャパン株式会社
コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A
20人以上が見ています
■概要 nanoPVD-T15A は、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 / 安定性に優れた低温有機蒸着源 ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
ANNEAL 卓上型ウエハーアニール装置
20人以上が見ています
■概要 3台までのMFCによる高精度プロセス雰囲気制御、操作性に優れたタッチパネル、安定した温度制御・優れた面内均一性。プロセス条件...
テルモセラ・ジャパン株式会社
BH series 超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター
20人以上が見ています
■CVD, PVD (スパッタ・蒸着) 真空アニール用面状基板加熱ユニット ・Max 1,800℃ グラファイト素線 _ 真空中 , 不活性ガス (Ar, N2) ・M...
テルモセラ・ジャパン株式会社
ウエハースケールグラフェン合成装置 nanoCVD-WGP
20人以上が見ています
最新の閲覧: 16時間前
■概要 欧州のアカデミックパートナー (Manchester, Warwick,etc..) の協力の下、実績ある卓上型 nanoCVD-8G (試 料サイズ 20mm) に加え...
テルモセラ・ジャパン株式会社
Mini-BENCH 超高温 卓上型実験炉 Max2,000℃
20人以上が見ています
■特徴 ・真空中 ・不活性ガス置換雰囲気 ・還元雰囲気 ■概要 大学・研究機関の基礎実験に最適な、コンパクトサイズ超高温実験用カーボ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
Mini-BENCH prism セミオート式 超高温実験炉 Max2,000℃
20人以上が見ています
■PLCセミオートコントロール 簡単操作 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 ■APC自動プロセス圧力コント...
テルモセラ・ジャパン株式会社
蒸着・スパッタソース混在【複合型成膜装置】nanoPVD-ST15A
20人以上が見ています
■概要 nano benchtop シリーズのラインナップに新たに加わった「蒸着」「スパッタ」混在型、” 3-in-1” マルチ薄膜実験装置 小型チャンバ...
テルモセラ・ジャパン株式会社
マグネトロンスパッタリングカソード
10人以上が見ています
■概要 ・高真空対応・メンテナンス性に優れたマグネトロンカソード ・クランプリング採用 ターゲットの交換が容易 ・Φ2inch~Φ4inch サイ...
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テルモセラ・ジャパンのカタログ 28件
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スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』RF/DCマグネトロンスパッタリングシステム
カタログ概要
小型・省スペース ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置nanoPVD-S10Aは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源...
タグ付けカテゴリ
スパッタリング装置 成膜装置 真空装置2023年9月15日
蒸着装置『nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置』
カタログ概要
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性...
タグ付けカテゴリ
蒸着装置 成膜装置 有機高分子2023年9月15日
スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ フレキシブル薄膜実験装置』
カタログ概要
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。 MiniLab R&D用実験装置シ...
タグ付けカテゴリ
蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
真空炉『Mini-BENCH（ミニベンチ）超高温卓上型実験炉』
カタログ概要
真空炉『Mini-BENCH（ミニベンチ）超高温卓上型実験炉』卓上小型サイズ実験炉。省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。実験室...
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真空炉 電気炉 熱処理炉2023年9月15日
真空炉『Mini-BENCH-prism セミオート式超高温実験炉』
カタログ概要
真空炉『Mini-BENCH-prism セミオート式超高温実験炉』最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペー...
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真空炉 電気炉 熱処理炉2023年9月15日
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
カタログ概要
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』Φ6inch、Φ8inchウエハーアニール装置研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマ...
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真空炉 電気炉 アニール炉2024年7月8日
アニール炉『ANNEAL ウエハーアニール装置』
カタログ概要
アニール炉『ANNEAL ウエハーアニール装置』Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）高真空水冷式...
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半導体製造装置 電気炉 アニール炉2023年9月15日
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置
カタログ概要
CVD装置『nanoCVD-8G/8N』グラフェン/CNT合成装置 ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分...
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グラフェン 成膜装置 CVD装置2023年9月15日
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』
カタログ概要
CVD装置『Nanofurnace 熱CVD装置』【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnO...
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グラフェン 成膜装置 CVD装置2023年9月15日
真空炉『TCF-C500 超高温小型実験炉』
カタログ概要
真空炉『TCF-C500 超高温小型実験炉』Max2900℃(カーボン炉）、Max2400℃（メタル炉） ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電...
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真空炉 加熱炉 電気炉2023年9月15日
蒸着装置『MiniLab-026フレキシブル薄膜実験装置』
カタログ概要
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"...
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蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
スパッタリング装置『MiniLab-060フレキシブル薄膜実験装置』
カタログ概要
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4・有機蒸着源 x 最大4・電子ビーム蒸着・2inchマグネ...
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蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』
カタログ概要
蒸着装置『MiniLab-080フレキシブル薄膜実験装置』蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一...
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蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』
カタログ概要
蒸着装置『MiniLab-090フレキシブル薄膜実験装置』80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブ...
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蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置 』
カタログ概要
蒸着装置『MiniLab-026/090-GBグローブボックス薄膜実験装置 』小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボッ...
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蒸着装置 スパッタリング装置 成膜装置2023年9月15日
スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
カタログ概要
スパッタカソード・蒸着ソース（抵抗加熱・有機蒸着）混在型薄膜実験装置'nanoPVD-ST15A'抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロン...
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蒸着装置 スパッタリング装置 成膜装置2023年9月15日
ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
カタログ概要
欧州アカデミックパートナーとの共同開発。ウエハースケール・グラフェン合成装置。 Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清...
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グラフェン プラズマCVD装置 CVD装置2023年9月15日
蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
カタログ概要
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシ...
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スパッタリング装置 半導体製造装置 プラズマエッチング装置2023年9月16日
多機能・4源スパッタリング装置 【MiniLab-S060】
カタログ概要
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタのみならず、蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールも組込み可能、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置【装置構成...
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蒸着装置 スパッタリング装置 半導体製造装置2023年9月16日
BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
カタログ概要
【UHV対応 PVD/CVD真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。３種類のサイズ（Φ1, ...
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ヒーター 成膜装置 アニール炉2023年9月15日
【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃
カタログ概要
CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレートヒータープレートにインコネルもしくはBNプレート...
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ヒーター 成膜装置 アニール炉2023年9月15日
【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃
カタログ概要
半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【ホットステージ】超高温基板加熱機構CVD、PVD装置の超高温基板加熱ステージに、高温加熱・基板昇降・...
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ヒーター 半導体製造装置 成膜装置2023年9月15日
マグネトロンスパッタリングカソード【MAG】series
カタログ概要
不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。 【特徴】・高真空対応・Φ2inch...
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スパッタリング装置 真空装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
薄膜実験装置_製品案内_2023
カタログ概要
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。【Nano Benchtopシリーズ】コンパクトサイズ・ハイパフォ...
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蒸着装置 スパッタリング装置 プラズマエッチング装置2023年9月15日
【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置
カタログ概要
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用） 連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより...
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蒸着装置 スパッタリング装置 半導体製造装置2023年9月16日
nano Benchtopシリーズ コンパクト薄膜実験装置
カタログ概要
研究開発の現場で求められる均一性の高い「高品質」な薄膜を作成するための様々な条件を備えます。nanoシリーズはコンパクトボディに機能を凝縮した高性能装...
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蒸着装置 スパッタリング装置 真空装置2023年11月6日
◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸発セル Max1500℃
カタログ概要
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。蒸発温度の高い材料も蒸発することができますので、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）のみ...
タグ付けカテゴリ
蒸着装置 真空装置 有機ELディスプレイ2024年8月3日
会社基本情報
| 郵便番号 | 〒103-0027 |
|---|---|
| 本社住所 | 東京都中央区日本橋3丁目2番14号 新槇町ビル別館第一 2階 |
| 創業年 | 2010年 |
| 法人番号 | 1010001131759 |
| リンク | テルモセラ・ジャパン株式会社 ホームページ |
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注目ランキングは、2024年11月のテルモセラ・ジャパン株式会社のMetoreeページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の各ページでの全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。また、製品はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。