酸素濃度50ppm以下を実現！小型リフローUNI-6116S (アントム株式会社) のカタログ情報
酸素濃度50ppm以下を実現！小型リフローUNI-6116S
製品個別カタログ
カタログ紹介
【あらゆる業界・用途で活躍する小型リフロー（加熱炉）のUNI-6116S】
小型リフロー（加熱炉）UNI-6116Sは「小型」・「高温設定」・「省エネ」を特徴とするN2対応可能な搬送式の小型リフロー炉です。
基板実装（はんだ付け）として生産用途をはじめ、半導体や電子部品業界における加熱用途（スクリーニング・試作・乾燥・硬化・エージング・バーンイン・耐熱試験・検査・品証など）でも多くの納入実績があります。
さらに窒素使用量においては、炉内酸素濃度50ppmを実現するために必要な窒素流量を200L/min以下にまで抑えることができます。
継続的な窒素使用量は毎月のランニングコストにも大きく影響するため、設備で使用する窒素流量を抑えることにより省エネによる環境面への配慮だけでなく、工場におけるコストダウンにも大きく貢献することが可能です。
また標準仕様でクラス10000に対応できる仕様（カスタマイズによりクラス100のクリーン実績あり）となっていることから納入先の6割以上がクリーンルームで使用されています。
クリーンルームの場合には少しでも設置スペースを抑えることで面積コストを抑えることが可能になりますので、UNI-6116Sを使用することにより面積生産性を向上させることが可能です。
小型リフロー（加熱炉）UNI-6116Sは「小型」・「高温設定」・「省エネ」を特徴とするN2対応可能な搬送式の小型リフロー炉です。
基板実装（はんだ付け）として生産用途をはじめ、半導体や電子部品業界における加熱用途（スクリーニング・試作・乾燥・硬化・エージング・バーンイン・耐熱試験・検査・品証など）でも多くの納入実績があります。
さらに窒素使用量においては、炉内酸素濃度50ppmを実現するために必要な窒素流量を200L/min以下にまで抑えることができます。
継続的な窒素使用量は毎月のランニングコストにも大きく影響するため、設備で使用する窒素流量を抑えることにより省エネによる環境面への配慮だけでなく、工場におけるコストダウンにも大きく貢献することが可能です。
また標準仕様でクラス10000に対応できる仕様（カスタマイズによりクラス100のクリーン実績あり）となっていることから納入先の6割以上がクリーンルームで使用されています。
クリーンルームの場合には少しでも設置スペースを抑えることで面積コストを抑えることが可能になりますので、UNI-6116Sを使用することにより面積生産性を向上させることが可能です。
